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射频离子源

概述

射频离子源用来产生离子束。由于相对成熟的技术和相对较低的价格，目前已在真空镀膜，半导体刻蚀，离子束加工等领域广泛应用。图片为自主设计的射频离子源，该离子源可以产生 5 mA 的质子束或者其它以气态形式存在物质的离子束。本公司可根据客户需求，提供各种类型的射频离子源系统整体设计和定制服务。射频离子源参数指标：离子束流大小：1mA-100mA；可应用于加速器、半导体刻蚀、离子束加工等领域。

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主要特性和技术指标

模块尺寸与安装方式

模块接口与连接方式

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